个人简介

招生方向 高端光刻机技术，光学检测技术 教育背景 2006-09--2011-07 四川大学 工学博士学位 2002-09--2006-07 山东理工大学 理学学士学位 工作简历 2013-07~现在, 中科院上海光学精密机械研究所, 副研究员 2011-07~2013-07,中科院上海光学精密机械研究所, 助理研究员 专利成果 （ 1 ） 一种光刻机光源的优化方法 , 发明, 2014, 第 3 作者, 专利号: 201410422502.3 （ 2 ） 光刻机投影物镜波像差检测标记和检测方法, 发明, 2014, 第 2 作者, 专利号: 201410088185.6 （ 3 ） 光刻投影物镜波像差和成像最佳焦面的检测方法, 发明, 2014, 第 1 作者, 专利号: 201410002627.0 （ 4 ） 并行计算光学条纹图相位提取方法, 发明, 2013, 第 2 作者, 专利号: 201310545345.0 （ 5 ） 极紫外光刻无缺陷掩模衍射谱快速严格仿真方法, 发明, 2013, 第 2 作者, 专利号: 201310534000.5 （ 6 ） 一种光束准直性检测方法 , 发明, 2014, 第 1 作者, 专利号: 201410655245.8 （ 7 ） 极紫外光刻含缺陷掩模衍射谱的快速严格仿真方法, 发明, 2014, 第 2 作者, 专利号: 201410487246.6 （ 8 ） 基于GPU并行计算小波变换的光学条纹图相位提取方法 , 发明, 2014, 第 2 作者, 专利号: 201410229216.5 （ 9 ） 光刻机光源与掩模的联合优化方法 , 发明, 2014, 第 2 作者, 专利号: 201410160451.1 （ 10 ） 光刻机照明光源的描述方法, 发明, 2014, 第 3 作者, 专利号: 201410160574.5 （ 11 ） 光刻物镜奇像差原位检测方法 , 发明, 2014, 第 3 作者, 专利号: 201410036241.1 （ 12 ） 基于相位环空间像主成分分析的投影物镜波像差检测方法, 发明, 2013, 第 3 作者, 专利号: 201310139424.1 （ 13 ） 极紫外光刻厚掩模缺陷的快速仿真方法, 发明, 2013, 第 2 作者, 专利号: 201310102557.1 （ 14 ） 三维信息光学加密系统和方法, 发明, 2013, 第 1 作者, 专利号: 201310021379.X 科研项目 （ 1 ） 提高小波变换条纹图像处理技术精度和速度的方法, 主持, 国家级, 2013-01--2015-12 （ 2 ） 极紫外光刻掩模缺陷计算补偿方法, 参与, 国家级, 2015-01--2018-12 （ 3 ） EUVL三维厚掩模衍射成像建模与仿真研究, 主持, 国家级, 2012-01--2015-12 （ 4 ） 基于空间像矢量分析的偏振像差在线检测与像质优化方法, 参与, 国家级, 2013-04--2016-12 （ 5 ） 光刻机光源与掩模联合优化理论与方法, 主持, 院级, 2015-12--2016-12 （ 6 ） 光刻过程中的透镜热效应仿真理论与方法, 主持, 院级, 2015-12--2016-12 参与会议 （1）Optimal shift of pattern shifting for mitigation of mask defects in extreme ultraviolet lithography Sikun Li, Xiangzhao Wang, Xiaolei Liu, et al 2015-06-22 （2）Source Optimization using Particle Swarm Optimization Algorithm in Photolithography Lei Wang, Sikun Li, Xiangzhao Wang, Guanyong Yan, Chaoxing Yang 2015-02-22 （3）A defocus measurement method for an in situ aberration measurement method using a phase-shift ring mask Sikun Li, Xiangzhao Wang , JishuoYang, Feng Tang, Guanyong Yan, Andreas Erdmann 2014-02-23 （4）Source representation for SMO using genetic algorithm Xiangzhao Wang, Sikun Li, C. Yang, G. Yan 2013-09-26 （5）Research on in situ aberration measurement of lithographic projection lenses Xiangzhao Wang, Sikun Li, L. Duan, J. Yang, and G. Yan 2012-09-20