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400-607-9388
  • 李文昊
  • 所属院校: 中国科学院大学
  • 所属院系: 光电学院
  • 职称:
  • 导师类型: 博导
  • 招生专业:
  • 研究领域: 全息衍射元器件研究 光通信元器件及模块 新型干涉光刻技术研究
个人简介

个人简介

招生方向 高精度位移感知系统研究,高能激光衍射元器件研究 光通信衍射器件研究 教育背景 2003-09--2008-06 长春光学精密机械与物理研究所 工学博士 1998-09--2002-06 陕西科技大学 工学学士 工作经历 2015-09—现在 长春光学精密机械与物理研究所 研究员 2009-09--2015-09 长春光学精密机械与物理研究所 副研究员 2007-09--2009-09 长春光学精密机械与物理研究所 助理研究员 2002-07--2007-09 长春光学精密机械与物理研究所 研究实习员 专利 1.CN201910987002.7 一种拉曼光谱仪 发明 实审 4 2019-10-17 2.CN201910679709.1 一种衍射光栅的无损切割方法 发明 实审 3 2019-07-26 3.CN201910225890.9 一种二维平面全息光栅曝光装置 发明 授权3 2019-03-25 4.CN201910063278.6 一种位移与角度同步测量方法发明实审 4 2019-01-23 5.CN201910063298.3 一种位移与角度同步测量系统发明实审 4 2019-01-23 6.CN201910023605.5 一种聚合物微纤维结构的制备方法及应用 发明 实审 3 2019-01-10 7.CN201811629955.8 一种全息光栅自准直实时监测显影截止点的方法 发明 实审 2 2018-12-29 8.CN201811632684.1 一种实时监测显影过程的方法发明实审 2 2018-12-29 9.CN201811632703.0 一种实时监测显影过程的装置 发明 实审 2 2018-12-29 10.CN201811631576.2 全息光栅自准直实时监测显影截止点的装置 发明 实审 2 2018-12-29 11.CN201811329268. 一种位移测量光学系统发明授权 3 2018-11-09 12.CN201810035524.2 应用于光刻系统工作台的位移测量光学系统 发明 实审 1 2018-01-15 13.CN201711431889.9 一种品字型位移测量光栅的制作方法 发明 实审1 2017-12-26 14.CN201711431915.8 一种品字型位移测量光栅的制作方法 发明 实审3 2017-12-26 15.CN201710735473.X 长行程、高精度测量的光栅位移测量系统 发明 授权 1 2017-08-24 16.CN201710735440.5 基于衍射光栅的长行程、高精度位移测量系统 发明 授权 1 2017-08-24 17.CN201710734790.X 长行程、高精度测量的光栅位移测量方法 发明 授权 1 2017-08-24 18.CN201710734786.3 基于衍射光栅的长行程、高精度位移测量方法发明 授权12017-08-24 19.CN201710734787.8 用于扫描干涉场曝光系统的精密光栅位移测量系统及方法 发明 授权 3 2017-08-24 20.CN201610537325.2全息光栅制作装置、曝光干涉条纹相位稳定装置及方法发明实审52016-09-21 21.CN201510415328.4 利用气流控制光刻胶膜厚度的匀胶装置及匀胶方法 发明 实审 4 2015-11-18 22.CN201410798282.4 一种新型厚层光刻胶涂覆方法 发明 实审 1 2015-04-08 23.CN201410798319.3 一种厚层光刻胶涂覆装置 发明 实审 1 2015-04-08 24.CN201410520588.3 变栅距光栅的制作方法 发明 实审 1 2015-01-21 25.CN201410521344.7 平面变栅距光栅的优化设计方法 发明 实审3 2015-01-21 26.CN201310693328 采用外差式干涉条纹锁定控制的全息光栅曝光方法 发明 实审 3 2014-04-02 27.CN201310693406 一种全息光栅曝光干涉条纹相位移动与锁定装置 发明 实审 4 2014-04-02 28.CN201310693376 在扫描曝光光路中精确调整干涉条纹方向的方法 发明 实审 42014-04-02 29.CN 101819323B一种调整洛艾镜装置中洛艾镜与光栅基底垂直度的方法 发明 授权 2 2011-07-20 30.CN102103269A 一种利用莫尔条纹调整全息光栅曝光光路中准直光的方法 发明 初审 2 2011-06-22 31.CN102087480A 一种平面全息光栅曝光光路中实时监测装置的调整方法 发明 初审 2 2011-06-08 32.CN102087481A 一种凹面全息光栅曝光光路中实时监测装置的调整方法 发明 初审 2 2011-06-08 33.CN101819323A 一种调整洛艾镜装置中洛艾镜与光栅基底垂直度的方法发明 实审 2 2010-09-01 34.CN101793988A 一种在全息光栅制作光路中精确调整刻线密度的方法 发明 授权 1 2010-08-04 35.CN101750649A 一种全息光栅制作光路中精确调整刻线密度的装置 发明 授权 1 2010-06-23 36.CN101726778A凹面全息光栅制作中光栅基底的双光束定位方法发明 实审 22010-06-09 37.CN101718884A 平面全息光栅制作中光栅基底的零级光定位方法 发明 实审 2 2010-06-02 38.CN100504450C 一种采用复制技术制作非球面镜的工艺方法 发明 授权 1 2009-06-24 39.CN101441287 一种全息光栅显影过程实时监测电路发明 实审 3 2009-05-27 40.CN101441431 全息光栅制作中实时监测曝光量的方法 发明 授权 1 2009-05-27 41.CN101441286 一种采用复制技术制作非球面光栅的方法 发明 授权 1 2009-05-27 42.CN100489696C 一种确定凹面全息光栅制作光路中两激光束夹角的方法 发明 授权 1 2009-05-20 43.CN101430395一种全息光栅制作中曝光量的实时监测装置发明授权12009-05-13 44.CN100480622C 凹面光栅制作光路中测量波源点与毛坯中心点距离的方法 发明 授权 1 2009-04-22 45.CN101126825 一种非球面光栅复制的新方法 发明 授权 1 2008-02-20 46.CN101126820 一种采用复制技术制作非球面镜的工艺方法 发明 授权 1 2008-02-20 47.CN101101344 IV型凹面全息光栅的制作工艺流程 发明 授权 1 2008-01-09 获奖 中国科学院青年创新促进会 其他 一等奖 院级 2013年 1 吉林省科技进步奖省部科学技术进步奖 一等奖 省 2012年 4 长白青年科技奖 其他 特等奖 其他 2010年 1 中国科学院院长奖学金 其他 一等奖 院级 2008年 1 科研项目 任务名称任务来源开始日期结束日期科研经费(万元)本人角色 1.基于光栅干涉位移测量技术的高精度轴承检测与建模 中国科学院计划-战略性先导科技专项 A2020-01-01——2022-12-01 500.0 项目负责人 2.基于光栅位移感知系统的坝体形变传感器的研制 地方任务-地方科技攻关计划课题 2019-01-01——2021-12-3 150.0 项目负责人 3.二维超精密平面位移感知系统 地方任务-地方科技攻关计划课题 2019-01-01——2021-10-31 1050.0 课题负责人 4.扫描干涉场曝光中干涉场边缘效应及光栅掩模参数精确控制方法研究 国家任务- 国家自然科学基金课题(面上项目) 2018-01-01——2018-12-31 14.0 负责人 5.中国科学院青年创新促进会优秀会员 中国科学院计划-院其他任务2018-01-01——2020-12-31180.0 负责人 6.高通量消像差凹面全息光栅研制 地方任务-地方科技攻关计划课题 2017-10-01——2019-09-30200.0负责人 中青年科技创新领军人才及团队项目 地方任务-地方科技攻关计划课题 2017-01-012019-12-31 20.0 负责人 7.凹面全息光栅研制及产业化 中国科学院计划-院地合作专项 2017-01-012018-12-31 100.0 负责人 8.深海关键溶解气体同位素分析系统光栅合束系统研制 国家任务-国家重点研发计划 2016-07-01——2020-06-30 154.0 负责人 9.宽波段荧光光谱仪的研制 地方任务-地方科技攻关计划课题 2015-01-012017-12-31 95.0 负责人 10.扫描干涉场曝光系统 国家任务- 2013-01-01-2017-12-31 8300.0 参与 11.高端全息光栅研发 国家任务- 2011-10-01——2016-10-01 3875.0 参与 12.扫描干涉场曝光技术PCG光栅国家任务-2011-07-012013-06-30 40.0 负责人 13.扫描干涉场曝光系统干涉条纹调整及锁定技术研究 中国科学院计划-2010-04-02——2012-03-31 280.0 负责人 14.高刻线密度平面全息光栅的优化设计与制作技术研究 中国科学院计划- 2009-12-21——2011-12-20 10.0

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