个人简介

孙文红，学习经历 1984.9-1988.7，兰州大学物理系学士 1988.9-1991.7，兰州大学物理系硕士 1991.8-1996.7，兰州大学物理系博士 工作经历： 2017.4-现在广西大学物理技术与工程学院,教授（八桂学者） 2006.5-2017.3SensorElectronicTechnology,Inc.,研发部主任 2002.3-2006.5UniversityofSouthCarolina,副教授，ResearchFellow 2000.8-2002.3IMRE(Singapore),ResearchFellow 1991.9-1996.8电子工业部第十三研究所,高级工程师，工程师主持（或参与）的主要科研项目光电信息研究中心建设（T312009721-杰出人才,八桂学者配套专项) 八桂学者人才项目（T3120099202,自制区人才项目）授权专利： 1.US9722139B2:“Non-UniformMultipleQuantumWellStructure”,2017. 2.USpatent2013/0193480:“EpitaxyTechniqueforReducingThreadingDislocationsinStressedSemiconductorCompounds”,2017. 3.USpatent9105792:“PatternedLayerDesignforGroupIIINitrideLayerGrowth”,2015. 4.USpatent9831382B2:“EpitaxyTechniqueforGrowingSemiconductorCompounds”,2017. 5.USpatent9330906,“STRESSRELIEVINGSEMICONDUCTORLAYER”,2016. 6.USpatent9537054B2“SEMICONDUCTORSTRUCTUREWITHREDUCEDBOWINGANDINCREASEDRELIABILITY”,2017.