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400-607-9388
PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING
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期刊ISSN
0272-4324
E-ISSN
1572-8986
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PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
Q2
PHYSICS, APPLIED
Q2
ENGINEERING, CHEMICAL
Q2
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期刊简介
Publishing original papers on fundamental and applied research in plasma chemistry and plasma processing, the scope of this journal includes processing plasmas ranging from non-thermal plasmas to thermal plasmas, and fundamental plasma studies as well as studies of specific plasma applications. Such applications include but are not limited to plasma catalysis, environmental processing including treatment of liquids and gases, biological applications of plasmas including plasma medicine and agriculture, surface modification and deposition, powder and nanostructure synthesis, energy applications including plasma combustion and reforming, resource recovery, coupling of plasmas and electrochemistry, and plasma etching. Studies of chemical kinetics in plasmas, and the interactions of plasmas with surfaces are also solicited. It is essential that submissions include substantial consideration of the role of the plasma, for example, the relevant plasma chemistry, plasma physics or plasma–surface interactions; manuscripts that consider solely the properties of materials or substances processed using a plasma are not within the journal’s scope.
出版信息
出版商 Springer US
期刊官网 https://www.springer.com/11090/
涉及的研究方向 工程技术-工程:化工
刊期 Quarterly
年文章数 74
出版国家或地区 UNITED STATES
是否OA
SCI期刊收录coverage Science Citation Index (已不再单独更新,统称SCIE) Science Citation Index Expanded (SCIE) Scopus (CiteScore)
Cite Score相关
Cite Score
Cite Score SJR SNIP 排名
5.4 0.549 1.12
学科 分区
大类学科:Materials Science
小类学科:Surfaces, Coatings and Films
Q1
大类学科:Materials Science
小类学科:General Chemical Engineering
Q1
大类学科:Materials Science
小类学科:Condensed Matter Physics
Q2
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小类学科:General Chemistry
Q2
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